LABORATORIO DI FISICA DEI MATERIALI
cod. 1000635

Anno accademico 2009/10
1° anno di corso - Secondo semestre
Docente
Settore scientifico disciplinare
Fisica della materia (FIS/03)
Field
Discipline fisiche e chimiche
Tipologia attività formativa
Caratterizzante
52 ore
di attività frontali
6 crediti
sede: -
insegnamento
in - - -

Modulo dell'insegnamento integrato: FISICA DEI MATERIALI CON LABORATORIO

Obiettivi formativi

<p><strong>Obiettivi:</strong> La fenomenologia determinata dalle proprietà elettriche ed ottiche dei semiconduttori e la correlazione struttura-proprietà sono messe in evidenza attraverso le attività sperimentali del modulo di Laboratorio che si avvale anche della collaborazione di esperti del laboratorio IMEM-CNR di Parma dove parte delle esperienze saranno realizzate.</p>
<p><br />
<br />
<strong>Competenze acquisite</strong>: alla fine del corso sperimentale, durante il quale saranno esaminate le principali tecniche diagnostiche, lo studente dovrebbe aver acquisito una sufficiente abilità nelle seguenti azioni: <br />
a) buona sensibilità nell'applicazione dei principi fisici fondamentali dei solidi in un approccio modellistico-sperimentale idoneo per studiare le proprietà più importanti di un semiconduttore <br />
b) una sufficiente conoscenza delle metodologie fondamentali di indagine e delle principali tecnologie di processo <br />
c) una prima introduzione alle strutture fondamentali e ai relativi problemi fisici e tecnologici da risolvere per la realizzazione di un dispositivo. <br />
d) una prima introduzione ai sistemi a bassa dimensionalità (nanostrutture e relative nanotecnologie).</p>

Prerequisiti

- - -

Contenuti dell'insegnamento

Modulo di Laboratorio: (6 CFU : mod. 2.1 + un altro modulo a scelta dello studente). Docenti: A.Bosio, L.Tarricone + cont.integ. IMEM/CMR <br />
<br />
2.1-Tecnologie del vuoto ed elementi di criogenia (3 CFU= 16L+ 15 Lab) <br />
<br />
2.2-Tecnologie microelettroniche (Tecnologie fisiche di deposizione sotto vuoto e tecniche fotolitografiche) (3 CFU = 8L+30 Lab) <br />
<br />
2.3-Caratterizzazione morfologica-strutturale (AFM,SEM,TEM,Diff.-X) (coll-IMEM) (3 CFU=8 L+ 30 Lab) <br />
<br />
2.4-Caratterizzazione elettrica e fotoelettrica (Hall, I/V, C/V, DLT, Fotoconducibilità, Quantum Yeld, Disp. Fotovoltaici) (3 CFU = 8 L+ 30 Lab) <br />
<br />

Programma esteso

- - -

Bibliografia

<p>Appunti dalle lezioni del corso di "Fisica dei Materiali e Laboratorio" <br />
Appunti dalle lezioni del corso "Materiali:struttura, pproprietà, applicazioni" <br />
o M.Wolf, N. Holonyak, G.E. Stillman “Physical properties of semiconductors” Prentice Hall <br />
International Editions <br />
o J. I. Pankove “Optical processes in semiconductors”  Dover publ.inc. <br />
o M.S. Tyagi “Semiconductor materials and devices” John  Wiley & sons <br />
o S.Sze “Introduction to Semiconductor devices: Physcs and technology” John Wiley & sons <br />
o R S..Muller, T.I. Kamins “Device electronics for integrated circuits“ John Wiley & sons <br />
o P. Bhattacharya “Semiconductor optoelectronic devices” Prentice Hall International Editions</p>
<p>Introduzione alla Tecnologia del Vuoto, Bruno Ferrario, Patron Editore,Bologna,1999. <br />
Handbook of Thin Film Technology, Maissel & Glang, McGraw-Hill, 1997. <br />
Thin Film Process, J. L. Vossen and W. Kern, Academic Press, Inc, 1999</p>
<p>Appunti delle lezioni forniti dai docenti. <br />
</p>

Metodi didattici

<p><strong>Valutazione finale:</strong> </p>
<p>Relazione scritta e orale su una tematica assegnata dal docente a completamento del modulo di laboratorio integrata da un colloquio sulla parte di teoria.</p>

Modalità verifica apprendimento

- - -

Altre informazioni

- - -